X 射線本質(zhì)上是一種與可見光相同的電磁波,波長為 0.01-100?,介于紫外線和γ射線之間, 又稱為琴倫射線。具有很強(qiáng)的穿透性,可使被照射物質(zhì)產(chǎn)生電離,同時具有熒光作用,熱作 用以及干涉,反射和折射等作用??茖W(xué)家們利用 X 射線的這些原理,研制出了各種各樣的檢 測設(shè)備,應(yīng)用于醫(yī)療和工業(yè)領(lǐng)域的各個行業(yè),在材料科學(xué)和失效分析領(lǐng)域的應(yīng)用尤其廣泛。 X 射線衍射技術(shù)主要應(yīng)用:樣品的物相定性或定量分析,晶體結(jié)構(gòu)分析,材料的織構(gòu)分析, 宏觀應(yīng)力或微觀應(yīng)力的測定,晶粒大小測定,結(jié)晶度測定等。 一、物相分析 根據(jù)晶體對 X 射線的衍射特征-衍射線的位置、強(qiáng)度及數(shù)量來鑒定結(jié)晶物質(zhì)之物相的方法, 就是 X 射線物相分析法。一張衍射圖譜上衍射線的位置(方向)僅和原子排列周期性有關(guān);衍射線的強(qiáng)度則取決 于原子種類、含量、相對位置等性質(zhì);衍射線的位置和強(qiáng)度就完整地反映了晶體結(jié)構(gòu)的二個特征,從而成為辨別物相的 依據(jù)。 1、定性分析方法 (1)圖譜直接對比法:直接比較待測樣品和已知物相的譜圖,該法可直觀簡單的對物相進(jìn)行 鑒定,但相互比較的譜圖應(yīng)在相同的實驗條件下獲取,該法比較適合于常見相及可推測相的 分析。 (2)數(shù)據(jù)對比法:將實測數(shù)據(jù)(2θ、d、I/I1)與標(biāo)準(zhǔn)衍射數(shù)據(jù)比較,可對物相進(jìn)行鑒定。 (3)計算機(jī)自動檢索鑒定法:建立標(biāo)準(zhǔn)物相衍射數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫(PDF 卡片),將樣品的實測數(shù) 據(jù)輸入計算機(jī),由計算機(jī)按相應(yīng)的程序進(jìn)行檢索,但這種方法還在不斷地完善。 2、定量分析方法 每種物相的衍射線強(qiáng)度隨其相含量的增加而提高,由強(qiáng)度值的計算可確定物相的含量。定量分析可用來確定混合物中某一化合物的含量。 對于多相樣品,當(dāng)通過定性相分析確定了樣品中所存在的物相后,就需要更深入的了解各相 的相對百分含量。 目前定量方法有:外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法、標(biāo)準(zhǔn)加入法、RIR 值法,其中 RIR 值 法最為簡單方便。 RIR 法定量是利用各種純物質(zhì)與α三氧化二鋁按照重量比 1:1 混合,測試二者強(qiáng)度的比值 K, 制作成一個數(shù)據(jù)庫,在日常多組分混合物定量分析時,將 K 值引入利用計算機(jī)擬合計算各物 相組分含量。 需要說明的是此定量結(jié)果為半定量,當(dāng)然在具體樣品分析時,可以將 ICP-OES、碳硫氧氮等 元素分析方法結(jié)合起來,提高定量準(zhǔn)確性。 若樣品又含有有機(jī)物,也可將 FTIR、TGA、GC-MS 結(jié)合起來進(jìn)行定量分析。 測試樣品:未知化合物成分分析、某化合物中不同物相定量分析(如二氧化鈦中的銳鈦礦物 相和金紅石物相含量)、輔助失效分析、輔助礦物分析、輔助高分子材料定量分析。 二、精密測定點陣參數(shù) 點陣常數(shù)是晶體物質(zhì)的基本結(jié)構(gòu)參數(shù)。點陣常數(shù)的測定是通過 X 射線衍射線的位置(θ)的 測定而獲得的。 確定點陣參數(shù)的主要方法是多晶 X 射線衍射法。 X 射線衍射法測定點陣參數(shù)是利用精確測得的晶體衍射線峰位 2θ角數(shù)據(jù),然后根據(jù)布拉格 定律和點陣參數(shù)與晶面間距 d 值之間的關(guān)系式計算點陣參數(shù)的值。 點陣參數(shù)精確測定的應(yīng)用:可用于研究物質(zhì)的熱膨脹系數(shù)、固溶體類型及含量、固相溶解度 曲線、宏觀應(yīng)力、化學(xué)熱處理層的分析、過飽和固溶體分解過程等。 三、宏觀應(yīng)力的測定 宏觀應(yīng)力的存在使部件內(nèi)部的晶面間距發(fā)生改變,所以可以借助 X 射線衍射方法來測定材料 部件中的應(yīng)力。按照布拉格定律可知:在一定波長輻射發(fā)生衍射的條件下,晶面間距的變化導(dǎo)致衍射角的變 化,測定衍射角的變化即可算出宏觀應(yīng)變,因而可進(jìn)一步計算得到應(yīng)力大小。 X 射線衍射法來測定試樣中宏觀應(yīng)力的優(yōu)點: (1)可以測量試樣上小面積和極薄層內(nèi)的宏觀應(yīng)力,如果與剝層方法相結(jié)合,還可測量宏觀應(yīng) 力在不同深度上的梯度變化; (2)不用破壞試樣即可測量; (3)測量結(jié)果可靠性高; 四、晶粒尺寸大小的測定 材料中晶粒尺寸小于 10nm 時,將導(dǎo)致多晶衍射實驗的衍射峰顯著增寬。故根據(jù)衍射峰的增 寬可以測定其晶粒尺寸。 在不考慮晶體點陣畸變的影響條件下,無應(yīng)力微晶尺寸可以由謝樂(Scherrer)公式計算 : D:晶粒尺寸(nm) : 衍射角 :衍射峰的半高寬,在計算的過程中,需轉(zhuǎn)化為弧度(rad) :單色入射 X 射線波長 K :為 Scherrer 常數(shù) 當(dāng) B 為峰的半高寬時 k=0.89 當(dāng) B 為峰的積分寬度時 k=0.94 五、取向分析 測定單晶取向和多晶的結(jié)構(gòu)(擇優(yōu)取向)。測定硅鋼片的取向就是一例。另外,為研究金屬 的范性形變過程,如孿生、滑移、滑移面的轉(zhuǎn)動等,也與取向的測定有關(guān)。 擇優(yōu)取向度 F 參數(shù)的計算: 以計算一般的晶面如(hk1)的 F 因子為例,需計算出與該晶面方向平行的所有晶面的強(qiáng)度之 和。 式中, I 和 I*分別表示無規(guī)則和有織構(gòu)時樣品任一晶面(hkl)衍射強(qiáng)度值。 六、結(jié)晶度的測定 結(jié)晶性高聚物中晶體部分所占的百分比叫做結(jié)晶度。是一種重要的工藝指標(biāo)。低分子晶體, 由于完-全結(jié)晶,沒有結(jié)晶度問題。高分子晶體,由于長的鏈狀結(jié)構(gòu)不易完-全整規(guī)排列,往往 導(dǎo)致非完-全結(jié)晶。 兩態(tài)分明體系的衍射圖由兩部分簡單疊加而成。 一部分是晶態(tài)產(chǎn)生的衍射峰,另一部分非晶 態(tài)產(chǎn)生的彌散隆峰。理論上推導(dǎo)得出如下質(zhì)量的結(jié)晶度公式: 式中: Xc——質(zhì)量結(jié)晶度; Ic——晶體部分的衍射強(qiáng)度; Ia——非晶體部分的衍射強(qiáng)度; k ——單位質(zhì)量非結(jié)晶態(tài)與單位質(zhì)量晶態(tài)的相對衍射線系數(shù),稱總校正因子,理論上 k ≈ 1。 通過軟件計算的結(jié)晶度為相對結(jié)晶度,主要是針對晶態(tài)和非晶態(tài)差別明顯的衍射圖進(jìn)行分 析。 常見四種結(jié)晶狀態(tài)的 XRD 圖譜: (a)結(jié)晶完整的晶體,晶粒較大,內(nèi)部原子的排列比較規(guī)則,衍射譜線強(qiáng)、尖銳且對稱; (b)非晶樣品沒有衍射峰; (c)結(jié)晶不完整的晶體,由于晶粒過于細(xì)小,晶體中有缺陷而使衍射峰形寬闊而彌散; (d)結(jié)晶度越差,衍射能力越弱,峰形越寬。 七、XRD 其他方面的應(yīng)用 *對晶體結(jié)構(gòu)不完整性的研究 包括對層錯、位錯、原子靜態(tài)或動態(tài)地偏離平衡位置,短程有序,原子偏聚等方面的研究。 *結(jié)構(gòu)分析 對新發(fā)現(xiàn)的合金相進(jìn)行測定,確定點陣類型、點陣參數(shù)、對稱性、原子位置等晶體學(xué)數(shù)據(jù)。 *液態(tài)金屬和非晶態(tài)金屬 研究非晶態(tài)、液態(tài)金屬結(jié)構(gòu),如測定近程序參量、配位數(shù)等。 *合金相變 包括脫溶、有序無序轉(zhuǎn)變、母相新相的晶體學(xué)關(guān)系等。 *特殊狀態(tài)下的分析 在高溫、低溫和瞬時的動態(tài)分析。 *此外,小角度散射用于研究電子濃度不均勻區(qū)的形狀和大??;X 射線形貌術(shù)用于研究近完 整晶體中的缺陷如位錯線等。
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